[1]牟世辉*.ChCl-EG低共熔型离子液体中Co2+的电沉积机理研究[J].电镀与精饰,2023,(8):34-37.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2023.08.006]
　Mu Shihui *.Electrodeposition behavior of Co 2+ in deep eutectic ionic liquid of choline chloride-ethylene glycol[J].Plating & Finishing,2023,(8):34-37.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2023.08.006]
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ChCl-EG低共熔型离子液体中Co2+的电沉积机理研究
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《电镀与精饰》[ISSN:1001-3849/CN:12-1096/TG]

卷:
期数:
2023年8
页码:
34-37
栏目:
出版日期:
2023-08-15

文章信息/Info

Title:
Electrodeposition behavior of Co 2+ in deep eutectic ionic liquid of choline chloride-ethylene glycol
作者:
牟世辉*
（沈阳理工大学 材料科学与工程学院，辽宁 沈阳 110159）
Author(s):
Mu Shihui *
（School of Material Science and Engineering， Shengyang Ligong University， Shengyang 110159， China）
关键词:
钴; 氯化胆碱 - 乙二醇; 循环伏安; 电结晶机理
Keywords:
Co ;  choline chloride-ethylene glycol ;  cyclic voltammetry ;  electrocrystallization mechanism
分类号:
TG147
DOI:
10.3969/j.issn.1001-3849.2023.08.006
文献标志码:
A
摘要:
通过循环伏安法（ CV ）与计时电流法（ CA ）研究了 Co 2+ 在氯化胆碱 - 乙二醇（ ChCl-EG ）中的电沉积行为及其成核机理。实验结果表明， Co 2+ 在 ChCl-EG 中的氧化还原反应为一步双电子反应。不同扫描速度下的循环伏安数据表明， Co 2+ 在 ChCl-EG 体系中的氧化还原反应为扩散控制下的不可逆反应，此过程传递系数 α 为 0.369 。 Co 2+ 在 ChCl-EG 体系中的电结晶过程符合三维连续成核模型。
Abstract:
： The electrodeposition behavior and nucleation mechanism of Co 2+ in choline chloride-ethylene glycol （ ChCl-EG ） were studied by cyclic voltammetry （ CV ） and chronoamperometry （ CA ） . The results show that the redox reaction of Co 2+ in ChCl-EG is a one-step two-electron reaction. CV data at different scanning rates indicate that the redox reaction of Co 2+ in ChCl-EG is irreversible. The transfer coefficient α is 0.369. The electrocrystallization process of Co 2+ in the ChCl-EG conforms to the three-dimensional continuous nucleation model.

参考文献/References:



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备注/Memo

备注/Memo:
收稿日期： 2020-09-25 修回日期： 2020-11-09 作者简介： 牟世辉（ 1974 ―），女，学士，高级实验师，主要研究方向表面工程以及功能材料， email ： shihuimu@163.com?/html>
更新日期/Last Update: 2023-08-03