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[1]杨 岭,潘应君*,郑世恩,等.石墨表面磁控溅射钛膜的结构与工艺参数研究[J].电镀与精饰,2023,(3):11-17.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2023.03.002]
 Yang Ling,Pan Yingjun*,Zheng Shien,et al.Structure and process parameters of titanium films prepared by magnetron sputtering on graphite[J].Plating & Finishing,2023,(3):11-17.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2023.03.002]
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石墨表面磁控溅射钛膜的结构与工艺参数研究

参考文献/References:



[1] 韩永军 . 高强石墨基复合材料的低成本制备与性能研究 [D]. 北京 : 北京科技大学 , 2015.

[2] 袁静兰 , 张有忱 , 谭晶 . 非接触式电磁感应加热及其应用 [J]. 工业加热 , 2016, 45(3): 33-37.

[3] 罗文忠 , 沈军 , 肇恒跃 , 等 . 电磁感应加热条件下不同发热体中磁场分布研究 [J]. 热加工工艺 , 2013, 42(22): 95-98.

[4] 黄永俊 , 蓝海凤 , 李少杰 , 等 . 电磁电饭锅内胆材料技术的发展现状 [J]. 中国材料进展 , 2018, 37(6): 469-475.

[5] 李兴航 , 曹达华 , 李康 , 等 . 石墨内胆、石墨炊具及表面涂层处理方法 : CN, 201710304940.3[P]. 2018-11-13.

[6] 周永 , 孔翠翠 , 李晓伟 , 等 . Ti/Al 过渡层对共掺杂类金刚石薄膜性能的影响 [J]. 表面技术 , 2019, 48(1): 268-275.

[7] E Vassallo, R Caniello, A Cremona, et al. Titanium interlayer to improve the adhesion of multilayer amorphous boron carbide coating on silicon substrate[J]. Applied Surface Science, 2013(266): 170-175.

[8] 张俊 , 王胜民 , 赵晓军 . 机械镀 Zn-Ti 复合镀层的组织及性能 [J]. 材料保护 , 2021, 54(1): 94-99.

[9] Tao Z H, Guo Q G, Gao X Q, et al. The wettability and interface thermal resistance of copper/graphite system with an addition of chromium[J]. Materials Chemistry and Physics, 2011, 128(1-2): 228-232.

[10] Kong N, Wei B Y, Li D S, et al. A study on the tribological property of MoS 2 /Ti-MoS 2 /Si multilayer nanocomposite coating deposited by magnetron sputtering[J]. RSC Advances, 2020, 10(16): 9633-9642.

[11] 刘仕福 , 沈以赴 , 王少刚 . 石墨表面钛金属化微观组织分析 [J]. 焊接学报 , 2005, 12: 89-92.

[12] 胡厅 , 万红 , 华叶 , 等 . 石墨表面 TiC 梯度涂层的制备及结构调制 [J]. 材料导报 , 2019, 33(1): 74-77.

[13] 洪波 . 钼圆片表面磁控溅射镀镍薄膜的工艺、结构及性能研究 [D]. 武汉 : 武汉科技大学材料与冶金学院 , 2016.

[14] 刘闯 , 周晖 , 张凯锋 , 等 . 调制比对磁控溅射 Ti/TiN 多层膜组织结构和结合力的影响 [J]. 电镀与涂饰 , 2019, 38(5): 212-217.

[15] Liu J N, Wang H D, Xing Z G, et al. Characterization of the mechanical behavior and fatigue property for Ti Films by nanoscale dynamic-mechanical-analysis[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2020, 49(6): 1938-1945.

[16] Chen A Y, Bu Y, Tang Y T, et al. Deposition-rate dependence of orientation growth and crystallization of Ti thin films prepared by magnetron sputtering[J]. Thin Solid Films, 2015(574): 71-77.

[17] 洪波 , 潘应君 , 张恒 , 等 . 钼合金磁控溅射镀镍薄膜工艺及后续热处理 [J]. 表面技术 , 2015, 44(9): 23-28.

[18] 靳巧玲 , 王海斗 , 李国禄 , 等 . 基于纳米压痕和纳米冲击技术研究溅射功率对 Ti 薄膜力学性能的影响 [J]. 机械工程学报 , 2018, 54(2): 117-124.

[19] 吴浩 , 夏延秋 , 吴礼宁 , 等 . 磁控溅射碳 / 铜复合涂层在脂润滑下的载流摩擦学性能研究 [J]. 材料保护 , 2021, 54(11) : 10-14.

[20] 国家质量技术监督局 . GB/T 9286-1998 色漆和清漆漆膜的划格试验 [S]. 北京 : 中国标准出版社 , 1998.

[21] 王鸿 , 王金淑 , 李春 , 等 . 磁控溅射参数对钛薄膜结构及阳极氧化的影响 [J]. 北京工业大学学报 , 2013(2): 264-268.

[22] 王海斗 , 董美伶 , 崔秀芳 , 等 . 不同厚度纳米 Ti 薄膜的力学性能 [J]. 材料工程 , 2015(11): 50-56.

[23] 曹慧 , 张发 , 郭玉利 . AZ31 镁合金表面低偏压磁控溅射 TiAlN 薄膜的结构与耐蚀耐磨性能 [J]. 材料保护 , 2021, 54(4): 118-122.

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[1]王槐乾,姜宏伟,王方标,等.工艺参数对磁控溅射TiN膜结构的影响[J].电镀与精饰,2019,(12):20.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2019.12.005]
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[8]刘永超 ?路亚娟,李润清,娄金刚,等.陶瓷表面金属化工艺研究[J].电镀与精饰,2023,(6):38.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2023.06.006]
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备注/Memo

收稿日期: 2022-05-16 修回日期: 2022-06-21 作者简介: 杨岭( 1997 —),男,硕士研究生, email : 1102735477@qq.co m 通信作者: 潘应君, email : hbwhpyj@163.com 基金项目: 武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室青年资金( 2018QN04 ) 和武汉科技大学钢铁冶金 及资源利用省部共建教育部重点实验室开放基金( FMRUlab17-7 )

更新日期/Last Update: 2023-02-20