《电镀与精饰》
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TiN
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工艺参数对磁控溅射TiN膜结构的影响
王槐乾，姜宏伟，王方标，黄海亮，左桂鸿，王 丹，郑友进
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2019年12 [20－24][
摘要
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3536
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2218KB]
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2189
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DOI:
10.3969/j.issn.1001-3849.2019.12.005