电镀与精饰 /oa <div> <span>己二酸铵对铝合金硬质氧化膜性能的影响</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240401 选用 2024 铝合金作为基体,分别在不添加和添加己二酸铵的硫酸电解液中制备硬质氧化膜,并研究己二酸铵浓度对硬质氧化膜的微观形貌、化学成分、厚度、硬度、耐磨性能以及耐腐蚀性能的影响。结果表明:添加适量己二酸铵促进形成较致密的硬质氧化膜,并使硬质氧化膜增厚,硬度增大且耐磨性能和耐腐蚀性能明显提高。添加 20 g/L 己二酸铵制备的硬质氧化膜表面均匀性和致密性最好,厚度和硬度分别达到 21.2 μ m 、 380.8 HV ,摩擦系数和磨损失重仅为 0.52 和 0.87 mg ,并且腐蚀电流密度与铝合金基体相比降低了超过一个数量级,表现出更好的综合性能。但是添加己二酸铵并未改变硬质氧化膜的元素组成,所以硬质氧化膜的综合性能提高主要归因于添加适量己二酸铵参与了硬质氧化膜形成过程,并影响了铝离子传导过程,从而促使硬质氧化膜增厚且致密性改善。 2024年04月01 00:00 2024年4 1 9 2913031 <div>李孝坤<sup>1 2</sup>*,雷鸣科<sup>1</sup>,路长远<sup>1 3</sup><br /></div> <div> <span style="">碳素钢电镀Ni/Cr装饰性镀层性能的研究</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240402 碳素钢上电镀装饰性双层镍套铬的孔隙率、形貌、粗糙度、抗拉强度以及钝化性能决定产品的质量。用贴滤纸法测镀层的孔隙率,用形状测量激光显微系统测镀层的表面粗糙度和三维形貌,同时,测试了镀层的抗拉强度和电化学阻抗谱。结果显示: 60 # 和 55 # 两种碳素钢镀单层半光亮镍后直达基体铁的孔隙率都最多,平均数为 16.82 个· cm<sup> -2</sup> ;除氢后相对于未除氢的镀铬层, 60 # 钢样品直达基体铁的孔隙率下降了 0.19 个· cm<sup> -2</sup> ,而 55 # 钢样品的孔隙率增加了 1.46 个· cm<sup> -2</sup> 。 60 # 和 55 # 钢的单层镍表面粗糙度最高,分别为 0.460 μ m 和 0.523 μ m ,双层镍上镀铬后 60 # 钢样品的表面粗糙度降低了 0.036 μ m ,而 55 # 钢样品的表面粗糙度增加了 0.016 μ m ,除氢降低了铬镀层的粗糙度。镀铬镀层碳素钢抗拉强度最小,除氢不仅能提高镀铬后的抗拉强度,而且增加了 60 # 钢镀层的钝化性能。 2024年04月01 00:00 2024年4 10 17 1767410 <div>朱志远<sup>1</sup>,周琦<sup>1</sup>*,徐滨<sup>2</sup>,王志平<sup>2</sup><br /></div> <div> <span style="">电沉积Ni-W及Ni-W-SiC镀层的组织与性能</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240403 采用电沉积法在钢基体表面制备了 Ni-W 和 Ni-W-SiC 镀层,并对镀层的成分及组织结构、维氏硬度、与基体的结合力、耐磨性和耐蚀性进行了测试与分析。结果表明,镀层在镀态为非晶结构,在 500 ℃ 热处理 2 h 会发生明显晶化, Ni-W 和 Ni-W-SiC 镀层的维氏硬度分别高达 1036 HV 和 1136 HV ,硬度和耐磨性均明显高于 Cr 镀层。经过中性盐雾试验,镀层表现出良好的耐蚀性,保护评级可达到 10 级。 2024年04月01 00:00 2024年4 18 23 818331 <div>赵显蒙<sup>1</sup>,李长青<sup>1</sup>*,鞠辉<sup>2</sup>,张庆霞<sup>1</sup>,孙淑伟<sup>1</sup><br /></div> <div> <span>新型锂离子电池组导电带耐腐蚀性能研究</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240404 为提高锂电池组导电带的耐腐蚀性能,以镍带为基础材料,经电沉积使镍带表面形成聚苯胺 - 石墨烯复合镀层,后进行盐水浸泡腐蚀试验与电化学测试,分析了电沉积时间对导电带耐腐蚀性能的影响。实验结果表明,镀层均匀致密,石墨烯分散均匀、连续性好。腐蚀电位随电沉积时间增加而正移,耐腐蚀性趋好。交流阻抗显示随着镀层厚度增厚,容抗弧半径增大,导电带的耐腐蚀性增强,说明聚苯胺 - 石墨烯镀层对镍带起到显著的防护作用。 2024年04月01 00:00 2024年4 24 28 789405 <div>楚翊婷<sup>1</sup>,王凯凤<sup>1</sup>,刘艾佳<sup>1</sup>,陈 可<sup>1</sup>,宋振兴<sup>2</sup>*,韩建波<sup>3</sup>,金楠淏<sup>4</sup><br /></div> <div> <span>A356铝合金的表面改性与耐磨及耐蚀性能研究</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240405 为了提升 A356 铝合金的表面耐磨耐蚀性能,采用等离子喷涂的方法在 A356 铝合金基体表面制备了 4 种高熵合金涂层( FeCoCrNi 和 FeCoCrNi+Mn/Cu/Ti ),对比分析了各等离子喷涂涂层的物相组成、显微形貌、硬度、耐磨和耐蚀性能。结果表明 4 种等离子喷涂涂层中都可见面心立方固溶体和氧化物的衍射峰。在 FeCoCrNi 中加入 Cu/Ti 后,涂层中还出现了 Cu/Ti 的衍射峰。 4 种等离子喷涂涂层厚度都介于 210 ~ 300 ?m ,涂层与基体界面以机械结合为主。 4 种等离子喷涂涂层的硬度、平均摩擦系数都高于 A356 铝合金基体,磨损率从低至高顺序为: FeCoCrNi (涂 层 Ⅰ ) 2024年04月01 00:00 2024年4 29 37 1340482 <div>禹露<sup>1</sup>*,许婄鑫<sup>2</sup>,罗志翔<sup>2</sup><br /></div> <div> <span>组合靶共溅射沉积Cu-W复合薄膜的结构与性能</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240406 用嵌入组合型靶材,采用磁控共溅射方法,在单晶硅和聚酰亚胺衬底上制备 Cu-W 复合薄膜。分别运用能谱仪、 X 射线衍射仪、扫描电镜和原子力显微镜对 Cu-W 复合薄膜的成份、结构及表面形貌进行分析表征。选用微小力测试系统、纳米压痕仪及四探针仪分别测试复合薄膜的屈服强度 σ 0.2 和裂纹萌生临界应变 ε c 、显微硬度 H 及电阻率 ρ 。结果表明:可通过调整组合型靶材环状溅射刻蚀区内 W 靶所占的面积比,有效地调控复合薄膜的 W 含量。随 W 靶的面积占比从 6% 增至 30% , Cu-W 复合薄膜的 W 含量从 2.6 at.% 增至 16.9 at.% 。 W 在 Cu 中的固溶度延展,复合膜内存在面心立方( fcc ) Cu ( W )亚稳固溶体,随复合膜中 W 含量增加, W 在 Cu 中的固溶度从 1.7 at.%W 增至 10 at.%W ,复合膜的平均晶粒从 32 nm 减小至 16 nm ,表面光洁度提高。 W 含量增加时,复合膜的屈服强度 σ 0.2 、显微硬度 H 及电阻率 ρ 增加,而裂纹萌生临界应变 ε c 减小。 2024年04月01 00:00 2024年4 38 45 903556 <div> <span>郭中正*,闫万珺,张殿喜,杨秀凡,蒋宪邦,周丹彤</span> <br /> </div> <div> <span>电解辅助磁力研磨整体叶盘试验研究</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240407 针对航空发动机整体叶盘结构复杂和材料难以加工的特性,在磁力研磨技术的基础上引入电解作用作为辅助手段。通过电解作用产生易于处理的钝化膜,然后再引入磁力研磨加工技术,加快了对叶盘表面纹理的去除,同时使表面加工质量更加均匀。通过 3D 超景深电镜观测叶盘表面形貌,结果显示:经复合研磨 20 min ,叶盘表面纹理基本去除,表面更加细密、均匀。表面粗糙度值 R a 由 1.5 μ m 降至 0.4 μ m 。 2024年04月01 00:00 2024年4 46 50 898085 <div>于克强<sup>1</sup>*,周锟<sup>1</sup>,靳铁辉<sup>2</sup>,陈燕<sup>1</sup><br /></div> <div> <span>建筑景观钢结构的表面改性设计与性能研究</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240408 为了提升建筑景观钢结构的表面性能,采用等离子喷涂和化学修饰的方法在钢结构用 Q345B 钢基体表面制备了 4 种不同成分配比的( Ni60+ Al <sub>2 </sub>O <sub>3 </sub>)涂层,研究了粉末成分配比对涂层物相组成、形貌、硬度、耐磨性和耐蚀性的影响。结果表明, 4 种涂层表面未见异常凹坑或者裂纹,局部存在未完全熔化的颗粒和微孔;涂层表面粗糙度会随着 Ni60 粉末质量分数的增加而减小。涂层 A ( 10%Ni60 )、涂层 B ( 20%Ni60 )、涂层 C ( 30%Ni60 )和涂层 D ( 40%Ni60 )与钢结构基体的结合强度分别为 26 、 37 、 50 和 56 MPa ,涂层区和界面区的硬度都高于钢结构基体,涂层 C 的涂层区硬度最高;当 Ni60 粉末质量分数从 10% 增加至 40% ,涂层的磨损率先减后增,涂层 C 的磨损率最小,具有最佳耐磨性能。化学修饰处理可以提升 Q345B 钢基体表面涂层的耐蚀性能,且当 Ni60 粉末质量分数从 10% 增加至 40% ,化学修饰后涂层的腐蚀电位先正移后负移、腐蚀电流密度先减后增、阻抗弧半径先增后减,化学修饰后涂层 C 的腐蚀电位最正、腐蚀电流密度最小、阻抗弧半径最大,涂层 C 具有最佳耐蚀性能。 2024年04月01 00:00 2024年4 51 58 1277100 <div> <span>茅舒青*,韩越祥</span> <br /> </div> <div> <span>不同钢铁表面无氰镀镉钛和氰化镀镉钛镀层性能差异</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240409 在不同钢铁基体表面进行无氰镀镉钛和氰化镀镉钛,对比不同钢铁基体表面两种工艺的镀层氢脆性能、疲劳性能和拉伸性能。结果表明: 300M 钢和 4340 钢进行无氰镀镉钛和氰化镀镉钛后的氢脆性能差异不明显。 300M 钢和 50CrVA 钢进行无氰镀镉钛和氰化镀镉钛后,疲劳性能有较小的变化。 50CrVA 钢进行无氰镀镉钛后疲劳极限相比裸材降低了 1.5% ,进行氰化镀镉钛后疲劳极限相比裸材提高了 5.0% ; 300M 钢进行无氰镀镉钛后疲劳极限相比于裸材增加了 3% ;进行氰化镀镉钛后疲劳极限相比于裸材降低了 7% 。无氰电镀镉钛对 300M 钢和 50CrVA 钢基体拉伸性能影响较小,相比于裸材,各项指标数值波动均在 5% 以内。 2024年04月01 00:00 2024年4 59 65 623955 <div>郝江华<sup>1</sup>,高晓颖<sup>1</sup>*,王浩军<sup>1</sup>,段党全<sup>1</sup>,詹中伟<sup>2</sup>,张骐<sup>2</sup><br /></div> <div> <span>高强极薄铜箔制造过程的质量管控要素及常见质量问题的 应对分析</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240410 随着电子产品的小型化、轻薄化,对电解铜箔的厚度和性能都提出了更高的要求,厚度更薄且综合性能更强的高强极薄铜箔的研发及产业化生产已经成为我国亟需解决的重要问题。由于高强极薄铜箔的制造过程复杂且耦合性强,产品质量控制因素多且质量问题影响因素复杂,制造过程的质量稳定性控制已成为制约高强极薄铜箔产业化生产的主要瓶颈问题。因此,以电解式高强极薄铜箔制造过程为主线,对各阶段产品的质量管控要素、质量管控方式以及常见质量问题的应对方法进行了系统的分析和探讨,致力于形成系统化的领域专家经验知识,为高强极薄铜箔制造过程的质量控制及量化稳定生产提供解决对策。 2024年04月01 00:00 2024年4 66 73 764762 <div>黄开程<sup>1</sup>,杨祥魁<sup>2</sup>,姜洪权<sup>1</sup>*,周智<sup>1</sup>,陈富民<sup>1</sup>,高建民<sup>1</sup>,程虎跃<sup>1</sup>,朱义刚<sup>2</sup><br /></div> <div> <span>乙二醇在电沉积中的应用</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240411 纯乙二醇( EG )和乙二醇 - 离子液体( EG-ILs )作为电解液在电沉积中进行了大量的应用。对 EG 体系中电沉积半导体材料、热电材料和金属单质进行总结,发现 EG 作为有机溶剂,具有较高的沸点而适合较大范围温度下的电沉积,电沉积温度从高温往室温发展,能通过添加剂和工艺参数对镀层进行调控。对 EG-ILs 体系中电沉积磁性材料、耐蚀材料和催化材料进行总结,发现在 EG-ILs 中电沉积得到镀层材料的耐腐蚀和催化性能优异。综述了金属在 EG 镀液中的电沉积机理。 2024年04月01 00:00 2024年4 74 80 623179 <div>邹庆田<sup>1 2</sup><br /></div> <div> <span>响应面法优化铜箔工艺参数的研究</span> <br /> </div> <div> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240412 通过单因素及响应面试验优化铜箔生产工艺参数对铜箔抗拉强度及延伸率的影响。结果发现,响应面优化最佳工艺条件为温度 60 ℃ ,电流密度 65 A/dm<sup> 2</sup> ,上液流量为 55 m <sup>3</sup> /h ,且各因素对抗拉强度的影响大小为电流密度 &gt; 温度 &gt; 上液流量,对延伸率的影响大小为温度 &gt; 电流密度 &gt; 上液流量,其中温度和电流密度对铜箔抗拉强度的交互作用显著,最优工艺条件下制备的铜箔( 111 )晶面的衍射强度最大,织构系数为 46.9% ,具有明显的择优取向。 2024年04月01 00:00 2024年4 81 89 1095707 <div> <span>王庆福,王绪军,樊斌锋,李谋翠*</span> <br /> </div> <div> <span>7075铝合金表面钼/钛/钒复合转化膜的制备与性能表征</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240413 采用钼酸盐和钛酸盐为主盐,以偏钒酸钠为成膜促进剂,植酸钠为有机添加剂,在 7075 铝合金表面制备了钼 / 钛 / 钒复合转化膜。借助扫描电子显微镜( SEM )、能谱仪( EDS )和 X 射线光电子能谱仪( XPS )分析了膜层的微观形貌、元素组成和化学成分,采用电化学工作站考察了基体和膜层的耐蚀性。实验结果表明:最佳转化液配方为 2 g·L <sup>-1</sup> 植酸钠、 1.5 g·L<sup> -1</sup> 偏钒酸钠、 1.5 g·L <sup>-1</sup> 六氟钛酸及 25 g·L<sup> -1</sup> 钼酸铵,最佳成膜条件为 15 min 和 35 ℃ 。膜层主要成分为 Al <sub>2</sub> O <sub>3 </sub>、 MoO <sub>2</sub> 、 MoO <sub>3</sub> 、 V<sub> 2</sub> O sub&gt;5  TiO <sub>2</sub> 。钼 / 钛 / 钒复合转化膜使 7075 铝合金的腐蚀电位正移了 206.401 mV ,腐蚀电流密度降低了 9.912 μ A·cm <sup>-2</sup> ,有效提高了基体的耐蚀性。 2024年04月01 00:00 2024年4 90 98 1148314 <div>罗有斌<sup>1</sup>,刘宁华<sup>1</sup>*,郑嘉伟<sup>2</sup>,祝闻<sup>2</sup>,赖心翘<sup>1</sup>,赖洪<sup>1</sup>,刘明杰<sup>1</sup><br /></div> <div> <span>酸性一价铜电镀铜的工艺及能效分析</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240414 针对电镀铜过程电力成本高的问题,通过极化曲线、赫尔槽试验、槽压变化以及扫描电镜等手段,分析了酸性一价铜电镀铜的电极过程及能效。通过对阴极的分析表明:优先发生亚铜离子的还原,阴极电流效率高于 92% ,且随阴极电流密度的增大而提高;当阴极电流密度不高于 4.0 A·dm <sup>-2</sup> 时,镀铜层表面状态和微观形貌较为优异。通过对紫铜阳极的分析表明:优先发生铜的氧化,阳极电流效率高于 94% ,且随阳极电流密度的增大而提高;阳极会发生钝化,导致槽压急剧升高;当采用大阳极小阴极进行电镀时,既可以克服槽压升高的问题又可以保证阴阳极电流效率的匹配。 2024年04月01 00:00 2024年4 99 105 1242243 <div>刘颖<sup>1</sup>*,邢希瑞<sup>1</sup>,田栋<sup>2</sup>,夏方诠<sup>2</sup>,李宁<sup>3</sup><br /></div> <div> <span>热镀锌镀层白条缺陷研究及控制</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240415 针对热镀锌产品镀层白条缺陷,研究了其形成机理、影响因素和控制措施。结果表明,白条缺陷由炉鼻子内锌灰黏附于带钢表面而形成,其成分是 Zn 和 ZnO 。白条缺陷影响因素主要有炉鼻子密封性、露点、带钢入锌锅温度、锌锅温度和排锌灰效果。通过对上述因素进行控制及优化,有效地消除白条缺陷,达到家电用钢表面质量需求。 2024年04月01 00:00 2024年4 106 110 1106647 <div> <span>金永清*,尹红国,寸海红,蒋英箴,吴林倬</span> <br /> </div> <div> <span>304不锈钢电铸镍层厚度均匀性研究</span> <br /> </div> /oa/darticle.aspx?type=view&id=20240416 为解决由于电流密度分布不均导致的电铸镍片厚度不均匀性问题,研究了电铸工艺参数和阴极挂具结构对改善镍片厚度均匀性和电铸结瘤状况的影响。结果表明,当电流密度为 11 A·dm -2 、阳极长度为 3.5 cm 、极间距为 2.5 cm 、温度为 45 ℃ 时,镍片厚度均匀性最好。此时厚度平均值为 0.484 mm ,极差和均方差分别为 0.157 mm 和 0.044 mm 。在最佳工艺参数下,改善挂具和设计阴极遮蔽,解决了接触点厚度薄的问题,结瘤缓解,电铸时间由 10 h 缩至 4 h ,厚度极差和均方差分别降至 0.116 mm 和 0.036 mm 。实验确定的最佳工艺条件不仅提高了镍片厚度均匀性,电铸时间也缩短了 60% ,提升了阳极镍粒的利用率,节约了电铸成本。 2024年04月01 00:00 2024年4 111 119 1424143 <div>何康<sup>1</sup>,许芳<sup>1</sup>,周赵琪<sup>1</sup>,刘超男<sup>1</sup>,乔叶平<sup>2</sup>,王振卫<sup>1</sup>*<br /></div>