《电镀与精饰》
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TiN
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工艺参数对磁控溅射TiN膜结构的影响
王槐乾,姜宏伟,王方标,黄海亮,左桂鸿,王 丹,郑友进
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2019年12 [20-24][
摘要
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4065
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pdf
2218KB]
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2475
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DOI:
10.3969/j.issn.1001-3849.2019.12.005