参考文献/References:
[1] 张允诚 , 胡如南 , 向荣 . 电镀手册 [M]. 北京 : 国防工业出版社 , 2006.
[2] 刘仁志 . 电子电镀技术 [M]. 北京 : 化学工业出版社 , 2008.
[3] 朱立群 . 功能膜层的电沉积理论与技术 [M]. 北京 : 北京航天航空大学出版社 , 2005.
[4] 陈俊寰 , 夏延秋 , 曹正锋 . 铜基银镀层的导电性及摩擦磨损性能 [J]. 材料保护 , 2016, 49(10): 1-4, 13.
[5] 周玉福 , 方小立 , 毛祖国 , 等 . 甲基磺酸型高速光亮镀锡研究 [J]. 材料保护 , 2019, 52(11): 103-106.
[6] 罗序燕 , 陈火平 , 李东林 . 铜线材酸性高速电镀致密光亮锡、锡铜合金 [J]. 材料保护 , 2002, 35(10): 20-23.
[7] 文斯雄 . 铍青铜零件电镀银工艺的改进 [J]. 材料保护 , 2006, 39(2): 65-66, 69.
[8] 郝利峰 , 王明生 . 高速镀锡工艺及其故障处理 [J]. 电镀与精饰 , 2008, 30(2): 21-23.
[9] Nozaki T, Yuuki K, Hamahara K. Conversion from halogen bath to environment-friendly methane sulfonic acid (MSA) bath in electrolytic tinning line (ETL) at east Japan works (Chiba), JFE steel[J]. JFE Technical Report, 2007(9): 76-79.
[10] 冯小龙 . 连续高速电镀技术在集成电路引线框架生产中的应用 [J]. 电镀与涂饰 , 2003, 22(6): 48-51.
[11] 马兆龙 , 王宝祥 , 肖鑫 , 等 . 同轴电缆垂直镀锡工艺中漏锡问题的研究 [J]. 光纤与电缆及其应用技术 , 2012(6): 18-21.
[12] Cheng F J, Xiao X, Sun G Z, et al. Control of pinhole defects formation in semi-flexible coaxial cable by vertical tin-plating process[J]. Transactions of Tianjin University, 2011, 17(5): 320-323.
[13] 王宗雄 , 储荣邦 , 鲍新华 . 实用氰化镀银工艺 [J]. 电镀与涂饰 , 2015, 34(24): 1424-1438.
[14] 钟恒江 . 高速连续性局部镀银的工艺管理 [J]. 电镀与精饰 , 2002, 24(2): 31-32.
[15] 郑瑞庭 . 氰化镀银工艺中的几个技术问题 [J]. 电镀与涂饰 , 2001, 20(6): 58-61.
[16] 赵平堂 . 水平运动式线材电镀线 [J]. 电镀与环保 , 2001, 21(6): 31-32.
[17] 朱建芳 , 龚富华 . 镀银铜线的银层厚度与银质量分数换算 [J]. 光纤与电缆及其应用技术 , 2009(3): 5-11.
[18] 许赵武 . 银镀层出现黑斑的处理 [J]. 电镀与涂饰 , 1997, 16(3): 56-57.
[19] 郭忠起 . 铜及铜合金零件镀银和防银变色 [J]. 材料保护 , 1991, 24(11): 35-37.
相似文献/References:
[1]赵 俊,王清华*,曹永成,等.电缆铜线无氰镀银代替氰化镀银的问题与难点[J].电镀与精饰,2023,(7):84.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2023.07.011]
Zhao Jun,Wang Qinghua*,Cao Yongcheng,et al.Problems and difficulties of cyanide-free silver electroplating for copper cable instead of cyanide silver plating[J].Plating & Finishing,2023,(8):84.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2023.07.011]