参考文献/References:
[1].周文木, 胡智宏. 电解铜箔在印制电路板端的评估方法研究[J]. 印制电路信息, 2021, 29(12): 6-12.
[2].祝大同. 印制电路板用高端电子铜箔及其技术新发展(上)[J]. 印制电路信息, 2022, 30(3): 10-16.
[3].王帅. 我国电解铜箔技术现状与趋势前瞻[J]. 有色金属加工, 2023, 52(1): 9-11.
[4].彭永忠, 刘圣林. PCB甩线、铜皮分层缺陷的成因分析[J]. 铜业工程, 2011(6): 51-54, 58.
[5].王海振, 胡旭日, 王维河, 等. 电解铜箔生产中电镀铬与电镀镍钼合金的性能对比[J]. 电镀与涂饰, 2014, 33(12): 506-509, 543.
[6].王妮. 一种电镀镍磷合金的添加剂和电镀工艺: 中国, 118727069?A [P]. 2024-10-01.
[7].CHOI Y. Preparation of electroformed copper-nickel multi-nano-layers and characterization of their electromagnetic shielding effectiveness[J]. Korean Journal of Metals and Materials, 2020, 58: 639-644.
[8].吴敏娴, 张然, 明智耀, 等. 硫脲对复合添加剂体系电解制备超低轮廓电解铜箔性能的影响[J]. 电镀与精饰, 2025, 47(3): 77-82.
[9].凌羽, 卢伟伟, 宋克兴, 等. 低轮廓电解铜箔表面微细粗化工艺研究[J]. 精密成形工程, 2024, 16(7): 173-181.
[10].徐建平, 杨帆, 郭立功. 超低轮廓度电解铜箔添加剂应用研究[J]. 中国金属通报, 2020(5): 85-86.
[11].谢幸秦, 周龙, 李延伟, 等. 中性电镀镍工艺探索研究[J]. 化工技术与开发, 2018, 47(2): 18-22.
[12].周小琴. 光亮电镀镍添加剂的研究[J].铸造技术, 2008(7): 955-958.
[13].李延伟, 尚雄, 姚金环, 等. 糖精对柠檬酸盐中性电镀镍影响的研究[J]. 电镀与精饰, 2013, 35(9): 43-46.
[14].王焱, 董玉坤, 李瑞基, 等. 高效液相色谱法测定镍镀液中的糖精钠和苯亚磺酸钠[J]. 分析测试技术与仪器, 2022, 28(1): 103-107.
[15].梁骏逸, 邹金成, 李林, 等. 马来酸酐与烯丙基磺酸钠共聚物的聚合过程及阻垢性能[J]. 油田化学, 2024, 41(2): 335-342.
[16].王记莲, 项东升, 申宏丹. 烯丙基磺酸钠改性CPP的制备研究与应用[J]. 化工技术与开发, 2016, 45(8): 6-8, 41.
[17].冯拉俊, 樊菊红, 雷阿利. 电镀镍组合添加剂研究[J]. 贵金属, 2006(3): 30-34.
[18].丁耀, 罗雪芳, 刘定富. 基于Box-Behnken试验设计的电沉积Ni-W-B合金镀层添加剂的制备[J]. 表面技术, 2022, 51(12): 178-187, 216.
[19].张守华, 张友亮, 邓志伟. 镀液添加剂对镀层内应力影响的研究[J]. 化工管理, 2021(6): 85-86.
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[1]王晓丽,顾 海,周昭昌,等.铜镀层工艺参数优化的正交实验研究[J].电镀与精饰,2018,(12):19.[doi:10.3969/j.issn.1001?3849.2018.12.005]
WANG Xiaoli,GU Hai,ZHOU Zhaochang,et al.Orthogonal Experimental Research on Optimization of Process Parameters of Copper Electroplating[J].Plating & Finishing,2018,(02):19.[doi:10.3969/j.issn.1001?3849.2018.12.005]
[2]王 秀.电镀智能监控系统设计[J].电镀与精饰,2018,(12):30.[doi:10.3969/j.issn.1001?3849.2018.12.007]
WANG Xiu.Design of Intelligent Electroplating Monitoring System[J].Plating & Finishing,2018,(02):30.[doi:10.3969/j.issn.1001?3849.2018.12.007]
[3]王明亮,杨海燕,李 明,等.电镀硬金的研究现状[J].电镀与精饰,2019,(11):26.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2019.11.007]
WANG Mingliang,YANG Haiyan,LI Ming,et al.Research Progress on Hard Gold Electrodeposition[J].Plating & Finishing,2019,(02):26.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2019.11.007]
[4]刘 光*,文 桦,徐启杰.基于TIA和PLC的全自动ABS塑料电镀控制系统设计[J].电镀与精饰,2020,(2):33.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2020.02.007]
LIU Guang*,WEN Hua,XU Qijie.Design of Automatic Control System for ABS Plastics Electroplating Line Based on TIA and PLC[J].Plating & Finishing,2020,(02):33.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2020.02.007]
[5]宋青员,何荣祥,陈朝会,等.高度梯度微纳结构的自动化电镀制备方法[J].电镀与精饰,2020,(7):23.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2020.07.0050]
SONG Qingyuan,HE Rongxiang,CHEN Chaohui,et al.Automated Electroplating for Gradient Height Micro-nano Structures Fabricating[J].Plating & Finishing,2020,(02):23.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2020.07.0050]
[6]雷翔霄?,徐立娟,唐春霞.基于神经网络PID算法的镀液温度控制系统[J].电镀与精饰,2020,(8):39.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2020.08.0080]
LEI Xiangxiao,XU Lijuan,et al.Bath Temperature Control System Based on Neural Network PID[J].Plating & Finishing,2020,(02):39.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2020.08.0080]
[7]范文俊,崔红兵,王 萌,等.从三价铬溶液电沉积非晶Cr-C镀层及其性能研究[J].电镀与精饰,2020,(12):37.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2020.12.0080]
FAN Wenjun,CUI Hongbing,WANG Meng,et al.Preparation and Performance Study of Amorphous Cr-C Coating Electrodeposited from Trivalent Chromium Solution[J].Plating & Finishing,2020,(02):37.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2020.12.0080]
[8]薛迪杰*,陈 军,陈景召.基于ZigBee的电镀生产线温度集中监控系统[J].电镀与精饰,2021,(1):31.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2021.01.0060]
XUE Dijie*,CHEN Jun,CHEN Jingzhao,et al.Temperature Centralized Monitoring System of Electroplating Production Line Based on ZigBee[J].Plating & Finishing,2021,(02):31.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2021.01.0060]
[9]王昱开*.不锈钢工具电镀金刚石工艺研究[J].电镀与精饰,2021,(3):6.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2021.03.002]
WANG Yukai*.王昱开*[J].Plating & Finishing,2021,(02):6.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2021.03.002]
[10]杨航城,田海燕.工艺参数对电镀镍钴合金及其性能的影响[J].电镀与精饰,2021,(4):5.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2021.04.002]
YANG Hangcheng,TIAN Haiyan.Effect of Process Parameters on Electrodepositing Ni-Co Alloy and Its Properties[J].Plating & Finishing,2021,(02):5.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2021.04.002]