ZHAO Ming,GUO Guocai*,GONG Shangxia,et al.Study on Electroless Plating of Silver with Different Reductants[J].Plating & Finishing,2022,(9):53-56.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2022.09.010]
不同还原剂条件下的化学镀银研究
- Title:
- Study on Electroless Plating of Silver with Different Reductants
- Keywords:
- electroless plating of silver ; reductant ; surface morphology
- 分类号:
- TQ153
- 文献标志码:
- A
- 摘要:
- 本论文在化学镀银溶液中分别以葡萄糖、酒石酸钾钠和甲醛作为还原剂,于玻璃表面进行了化学镀银的实验研究,讨论分析了还原剂种类对化学镀银溶液中银起始沉积时间和沉积速度的影响。结果表明,以甲醛为还原剂的化学镀银溶液中银起始沉积时间最短,沉积速度最快;以酒石酸钾钠为还原剂的化学镀银溶液中银起始沉积时间最长,沉积速度最慢;而以葡萄糖为还原剂的化学镀银溶液中银起始沉积时间和沉积速度适中。试样表面化学镀银沉积层均匀细致,结晶尺寸为 0.1~0.5 μ m 。
- Abstract:
- : Electroless plating of silver on the surface of non-conducting material of glass were carried out in plating solutions using glucose , potassium sodium tartrate and formaldehyde as reductant , respectively. The effects of reductant on the initial deposition time and deposition rate of silver in electroless silver plating solution were discussed and analyzed. The results show that in the electroless silver plating solution with formaldehyde as reductant , the initial deposition time of silver is the shortest and the deposition speed is the fastest. In the electroless silver plating solution with potassium sodium tartrate as reductant , the initial deposition time of silver is the longest and the deposition speed is the slowest. The initial deposition time and deposition rate of silver in electroless silver plating solution with glucose as reductant are moderate. The silver deposition layer on the sample surface is uniform and fine , and the crystal size is 0.1~0.5 μ m.
参考文献/References:
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备注/Memo
收稿日期: 2022-06-25 修回日期: 2022-07-11 作者简介: 赵明( 1982 ―),男,本科,助理工程师, email : jeremy.zhao@aircraftmetal.com.cn * 通信作者: 郭国才, email : ggc@sit.edu.cn?/html>