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[1]李兆营*.功率对直流磁控溅射氧化钒薄膜电学性能的影响[J].电镀与精饰,2023,(4):45-50.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2023.04.008]
　Li Zhaoying *.Effect of power on electrical properties of vanadium oxide thin films prepared by direct current magnetron sputtering[J].Plating & Finishing,2023,(4):45-50.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2023.04.008]
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功率对直流磁控溅射氧化钒薄膜电学性能的影响

《电镀与精饰》[ISSN:1001-3849/CN:12-1096/TG] 卷: 期数: 2023年4 页码: 45-50 栏目: 出版日期: 2023-04-15
Title:
Effect of power on electrical properties of vanadium oxide thin films prepared by direct current magnetron sputtering
作者:
李兆营*
（安徽光智科技有限公司，安徽 滁州239000）
Author(s):
Li Zhaoying *
（Vital Optics Technology Co.， Ltd.， Chuzhou 239000， China）
关键词:
氧化钒薄膜; 功率; 直流磁控溅射; 电阻温度系数
Keywords:
vanadium oxide thin film ;  power ;  direct current magnetron sputtering ;  temperature coefficient of resistance
分类号:
TN305.92
DOI:
10.3969/j.issn.1001-3849.2023.04.008
文献标志码:
A
摘要:
采用直流磁控溅射方法在长有 300 nm 厚的 Si 3 N 4 薄膜的 Si （ 100 ）晶圆上制备了氧化钒薄膜，利用 X 射线衍射仪（ XRD ）、 X 射线光电子能谱（ XPS ）、原子力显微镜（ AFM ）和探针法分析了不同功率对薄膜结晶结构、成分、表面形貌和电学性能的影响。结果表明：不同功率沉积的氧化钒薄膜均为非晶结构，薄膜主要成分为 VO 2 和 V 2 O 5 ；随着功率的提高，薄膜的平均粗糙度降低， V 2 O 5 的含量升高，进而导致电阻温度系数绝对值也随之增大。
Abstract:
： Vanadium oxide thin films were prepared on Si （ 100 ） wafers with 300 nm thick Si 3 N 4 films by direct current magnetron sputtering. The effects of different power on the crystal structure ， composition ， surface morphology and electrical properties of the films were analyzed by X-ray diffraction （ XRD ）， X-ray photoelectron spectroscopy （ XPS ）， atomic force microscopy （ AFM ） and probe method. The results show that the vanadium oxide films deposited at different power are amorphous ， and the main components of the films are VO 2 and V 2 O 5 . With the increase of power ， the average roughness of the film decreases ， and the content of V 2 O 5 increases ， which leads to the increase of the absolute value of the temperature coefficient of resistance.

参考文献/References:



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　BAI Rui,WU Yingtong,LI Xiaoming,et al.Influence of Vacuum Annealing Temperature on Structure and Optical Properties of the Vanadium Oxide Films by Magnetron Sputtering[J].Plating & Finishing,2020,(4):25.[doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2020.11.0060]

备注/Memo

收稿日期： 2022-11-15 修回日期： 2023-01-16 * 通信作者： 李兆营（ 1989 —），男，硕士，工程师， email ： lzy11189@126.com?/html>

更新日期/Last Update: 2023-04-14